Institutional Repository of Chinese Acad Sci, Inst Intelligent Machines, Hefei 230031, Anhui, Peoples R China
| 纳米二氧化铈化学共沉淀法制备及结构表征 | |
刘锦淮 ; 刘伟; 焦正; 余增亮
| |
| 2003 | |
| 发表期刊 | 电子元件与材料
 |
| 合作性质 | 其它 |
| 学科领域 | 纳米材料与技术 |
| 收录类别 | 其他 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/1058 |
| 专题 | 中科院合肥智能机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘锦淮,刘伟,焦正,等. 纳米二氧化铈化学共沉淀法制备及结构表征[J]. 电子元件与材料,2003,22(7). |
| APA | 刘锦淮,刘伟,焦正,&余增亮.(2003).纳米二氧化铈化学共沉淀法制备及结构表征.电子元件与材料,22(7). |
| MLA | 刘锦淮,et al."纳米二氧化铈化学共沉淀法制备及结构表征".电子元件与材料 22.7(2003). |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 纳米二氧化铈化学共沉淀法制备及结构表征.（105KB） | 开放获取 | 使用许可 | 浏览 下载 | |||
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