Knowledge Management System of Hefei Institute of Physical Science，CAS
| 化学镀Co-B合金(Ⅰ) | |
王莉萍1; 吴玉程1; 李云1 ; 张勇2; 李广海2
| |
| 2004 | |
| 发表期刊 | 电镀与精饰
 |
| ISSN | 1001-3849 |
| 摘要 | 利用化学镀的方法,以硫酸钴为主盐,二甲基胺硼烷为还原剂,制备纳米晶Co-B合金,研究了在各种条件下沉积速率的变化.结果表明合适的工艺参数的选择,可得到较好的沉积速率,并可由此得到一个化学镀Co-B合金纳米晶的较优配方参数. |
| 关键词 | electroless plating Co-B alloy nanocrystalline deposition rate 化学镀 Co-B合金 纳米晶 沉积速率 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/132872 |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.合肥工业大学 2.中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王莉萍,吴玉程,李云,等. 化学镀Co-B合金(Ⅰ)[J]. 电镀与精饰,2004,26. |
| APA | 王莉萍,吴玉程,李云,张勇,&李广海.(2004).化学镀Co-B合金(Ⅰ).电镀与精饰,26. |
| MLA | 王莉萍,et al."化学镀Co-B合金(Ⅰ)".电镀与精饰 26(2004). |
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