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Acceleration of Kirkendall effect processes in silicon nanospheres using magnetic fields
Yuecheng Bian1,2,3; Wei Ding4; Lin Hu1; Zongwei Ma1; Long Cheng1; Ranran Zhang1; Xuebin Zhu4; Xianwu Tang4; Jianming Dai4; Jin Bai4; Yuping Sun1,3; Zhigao Sheng1,3
2018
发表期刊CrystEngComm
卷号20期号:6页码:710-715
语种英语
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/33924
专题中科院强磁场科学中心
通讯作者Zhigao Sheng
作者单位1.Chinese Acad Sci, High Magnet Field Lab, Anhui Prov Key Lab Condensed Matter Phys Extreme, Hefei 230031, Anhui, Peoples R China
2.Univ Sci & Technol China, Hefei 230026, Anhui, Peoples R China
3.Nanjing Univ, Collaborat Innovat Ctr Adv Microstruct, Nanjing 210093, Jiangsu, Peoples R China
4.Chinese Acad Sci, Inst Solid State Phys, Key Lab Mat Phys, Hefei 230031, Anhui, Peoples R China
推荐引用方式
GB/T 7714
Yuecheng Bian,Wei Ding,Lin Hu,et al. Acceleration of Kirkendall effect processes in silicon nanospheres using magnetic fields[J]. CrystEngComm,2018,20(6):710-715.
APA Yuecheng Bian.,Wei Ding.,Lin Hu.,Zongwei Ma.,Long Cheng.,...&Zhigao Sheng.(2018).Acceleration of Kirkendall effect processes in silicon nanospheres using magnetic fields.CrystEngComm,20(6),710-715.
MLA Yuecheng Bian,et al."Acceleration of Kirkendall effect processes in silicon nanospheres using magnetic fields".CrystEngComm 20.6(2018):710-715.
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