金刚石薄膜生长速度研究

HFCAS OpenIR

	金刚石薄膜生长速度研究
其他题名	Growth of CVD diamond thin films with high growth rate
	王传新 1; 汪建华 1; 满卫东 1; 马志斌 1; 王升高 1; 傅朝坤 2; 李克林 2; 康志成 3
	2005
发表期刊	功能材料与器件学报
ISSN	1007-4252
摘要	在电子辅助热丝CVD中，研究刀具预处理对金刚石薄膜生长速度的影响。在保持生长条件不变的前提下，经酸腐蚀处理的刀具的侧、背面镀铜能使金刚石薄膜的生长速度从没有镀铜时的4μm／h增加到镀铜后的10．6μm／h。镀铜处理提高了刀具的电导率，使得热丝发射的电子在偏压电场的作用下，在刀具表面附近聚集，加速氢气和丙酮的裂解，从而提高金刚石薄膜生长速度。SEM和Raman测试结果表明，高速生长的金刚石薄膜仍然具有很高质量。
其他摘要	The effects of the pretreatment of cutting tools substrate on the growth rate of diamond film were studied by using electron assisted hot filament chemical vapor deposition. The growth rate of diamond film on the flank and back of the cutting tools can be improved from 4.0μm/h only with acid etching pretreatment to 10.6μm/h with acid etching and then plated a thin copper film under same growth conditions. The plating copper can increase the conductivity of the cutting tools and help concentration of the electrons come from the hot filament around the surface of cutting tools under the bias voltage. These electrons accelerate the decomposition of hydrogen and acetone and result in the increase of growth rate of the diamond films. SEM images and Raman spectrum show that the diamond films prepared with high growth rate have high qualities.
关键词	金刚石薄膜生长速度镀铜硬质合金
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:2138779
引用统计
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/46569
专题	中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位	1.武汉化工学院 2.武汉化工学院 3.武汉化工学院 4.武汉化工学院 5.武汉化工学院 6.自贡硬质合金有限公司 7.自贡硬质合金有限公司 8.中国科学院等离子体物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王传新,汪建华,满卫东,等. 金刚石薄膜生长速度研究[J]. 功能材料与器件学报,2005,011.
APA	王传新.,汪建华.,满卫东.,马志斌.,王升高.,...&康志成.(2005).金刚石薄膜生长速度研究.功能材料与器件学报,011.
MLA	王传新,et al."金刚石薄膜生长速度研究".功能材料与器件学报 011(2005).