Knowledge Management System of Hefei Institute of Physical Science，CAS
| 磁场辅助等离子体增强化学气相沉积 | |
| 其他题名 | Magnetic-field-aided plasma enhanced chemical vapor deposition |
| 陈家荣1; 陈文锦1; 邱凯1; 马文霞1 | |
| 2007 | |
| 发表期刊 | 真空
 |
| ISSN | 1002-0322 |
| 摘要 | 本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律，以及磁场对等离子体内部电子的作用原理，设计了磁场辅助的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统，并且研究了在PECVD系统中获得均匀磁场的方法。而后，以SiH4和N2为反应气体，在低气压下沉积了SiN薄膜。测量了SiN薄膜的沉积速率，折射率，表面形貌等参数。验证了磁场分布的均匀性，分析了磁场在等离子体增强化学气相沉积系统中的作用。 |
| 其他摘要 | Magnetic-field-aided PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） system was designed according to the magnetic field distribution in solenoid and the effect of magnetic field on the electrons in plasma. Investigates the way to obtain homogeneous magnetic field in the system. With Sill4 and N2 used as gas reactants the SiN thin film is deposited under low pressure. The deposition rate and refractive index are measured and the Atomic Force Microscope （AFM） images of film surface morphology are obtained, and the homogeneity of magnetic field distribution is thus verified. Finally, the role of magnetic field played in the PECVD system is analyzed. |
| 关键词 | PECVD 氮化硅 磁场 沉积速率 折射率 表面形貌 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:2779388 |
| 引用统计 | |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/50105 |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.中国科学院固体物理研究所 2.中国科学院固体物理研究所 3.中国科学院固体物理研究所 4.中国科学院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈家荣,陈文锦,邱凯,等. 磁场辅助等离子体增强化学气相沉积[J]. 真空,2007,044. |
| APA | 陈家荣,陈文锦,邱凯,&马文霞.(2007).磁场辅助等离子体增强化学气相沉积.真空,044. |
| MLA | 陈家荣,et al."磁场辅助等离子体增强化学气相沉积".真空 044(2007). |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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