HFCAS OpenIR  > 中科院安徽光学精密机械研究所
Al2O3缓冲层对以ZnO:Al为阳极的有机电致发光器件性能的影响
姚 宁; 邢宏伟; 穆慧慧; 崔娜娜; 葛亚爽; 王英俭; 张兵临
2011
发表期刊真 空 科 学 与 技 术 学 报
学科领域光电子技术
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/5295
专题中科院安徽光学精密机械研究所
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GB/T 7714
姚 宁,邢宏伟,穆慧慧,等. Al2O3缓冲层对以ZnO:Al为阳极的有机电致发光器件性能的影响[J]. 真 空 科 学 与 技 术 学 报,2011,31(2).
APA 姚 宁.,邢宏伟.,穆慧慧.,崔娜娜.,葛亚爽.,...&张兵临.(2011).Al2O3缓冲层对以ZnO:Al为阳极的有机电致发光器件性能的影响.真 空 科 学 与 技 术 学 报,31(2).
MLA 姚 宁,et al."Al2O3缓冲层对以ZnO:Al为阳极的有机电致发光器件性能的影响".真 空 科 学 与 技 术 学 报 31.2(2011).
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