强磁场诱导的生长对聚(3-己基噻吩):富勒烯复合薄膜室温铁磁性的影响

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	强磁场诱导的生长对聚(3-己基噻吩):富勒烯复合薄膜室温铁磁性的影响
	陈飞1 ; 潘国兴 2; 周国庆 2; 张发培2
	2015
发表期刊	低温物理学报
ISSN	1000-3258
摘要	聚(3-己基噻吩)(P3HT)与富勒烯(C_(60))(或其衍生物)形成的有机复合薄膜(P3HT:C_(60))具有室温铁磁性,但如何进一步提高其磁性能以及探究薄膜结构和磁性质的联系尚未见报道.本文采用强磁场下的溶液相沉积方法制备P3HT:C_(60)薄膜,并利用超导量子干涉磁强计、电子自旋共振谱和紫外-可见光吸收谱,研究了强磁场诱导对薄膜铁磁性和微结构的影响.发现其室温铁磁性有显著提高,饱和磁化强度较未加磁场生长的样品增大一个数量级,并且显示较高的居里温度(大于400 K).薄膜结构分析发现,强磁场诱导引起P3HT分子链间堆积有序增强和结晶度的提高.这将增强体异质结薄膜内P3HT分子与C_(60)分子间的电荷转移,因而可能是P3HT:C_(60)薄膜室温铁磁性增强的一个重要原因.
关键词	共轭聚合物有机薄膜强磁场室温铁磁性
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:5558141
引用统计
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/58425
专题	中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位	1.安徽大学物理与材料科学学院 2.中国科学院强磁场科学中心 3.中国科学院强磁场科学中心 4.中国科学院强磁场科学中心
推荐引用方式 GB/T 7714	陈飞,潘国兴,周国庆,等. 强磁场诱导的生长对聚(3-己基噻吩):富勒烯复合薄膜室温铁磁性的影响[J]. 低温物理学报,2015,第6期.
APA	陈飞,潘国兴,周国庆,&张发培.(2015).强磁场诱导的生长对聚(3-己基噻吩):富勒烯复合薄膜室温铁磁性的影响.低温物理学报,第6期.
MLA	陈飞,et al."强磁场诱导的生长对聚(3-己基噻吩):富勒烯复合薄膜室温铁磁性的影响".低温物理学报第6期(2015).