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	Influence of Gas Pressure in Radio Frequency Sputtering on Microstructure and Optical Properties of VO2(M) Thin Films
	Tian, YH; Pan, SS; Luo, YY; Li, GH
	2012-02-01
发表期刊	SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS
学科领域	纳米材料与技术
WOS记录号	WOS:000303281300021
引用统计	被引频次：3[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/7627
专题	中科院固体物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	Tian, YH,Pan, SS,Luo, YY,et al. Influence of Gas Pressure in Radio Frequency Sputtering on Microstructure and Optical Properties of VO2(M) Thin Films[J]. SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS,2012,4(2).
APA	Tian, YH,Pan, SS,Luo, YY,&Li, GH.(2012).Influence of Gas Pressure in Radio Frequency Sputtering on Microstructure and Optical Properties of VO2(M) Thin Films.SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS,4(2).
MLA	Tian, YH,et al."Influence of Gas Pressure in Radio Frequency Sputtering on Microstructure and Optical Properties of VO2(M) Thin Films".SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS 4.2(2012).

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