Knowledge Management System of Hefei Institute of Physical Science,CAS
Improved schottky barrier on n-Sb2S3 films chemically deposited with silicotungstic acid | |
O. Savadogo; K.C. Mandal | |
1992 | |
发表期刊 | Electronics Letters |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/7845 |
专题 | 全文传递库 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | O. Savadogo,K.C. Mandal. Improved schottky barrier on n-Sb2S3 films chemically deposited with silicotungstic acid[J]. Electronics Letters,1992. |
APA | O. Savadogo,&K.C. Mandal.(1992).Improved schottky barrier on n-Sb2S3 films chemically deposited with silicotungstic acid.Electronics Letters. |
MLA | O. Savadogo,et al."Improved schottky barrier on n-Sb2S3 films chemically deposited with silicotungstic acid".Electronics Letters (1992). |
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