Institutional Repository of Chinese Acad Sci, Inst Solid State Phys， Hefei 230031, Anhui, Peoples R China
| 二维胶体晶体刻蚀法及其应用 | |
李越 ; 蔡伟平; 孙丰强; 张立德
| |
| 2003 | |
| 发表期刊 | 物理
 |
| ISSN | 0379-4148 |
| 摘要 | 二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点，它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态（即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等），从而实现阵列性质的大范围调制。而二维胶体晶体的合成是这种刻蚀技术的关键，文章着重介绍其形成的基本过程、影响因素及其合成技术；概述胶体晶体刻蚀技术的应用，并对此进行展望。 |
| 合作性质 | 其它 |
| 关键词 | 二维胶体晶体刻蚀法 纳米颗粒阵列 纳米材料 纳米结构 合成 |
| 学科领域 | 纳米材料与技术 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1294340 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/846 |
| 专题 | 中科院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李越,蔡伟平,孙丰强,等. 二维胶体晶体刻蚀法及其应用[J]. 物理,2003,032(3). |
| APA | 李越,蔡伟平,孙丰强,&张立德.(2003).二维胶体晶体刻蚀法及其应用.物理,032(3). |
| MLA | 李越,et al."二维胶体晶体刻蚀法及其应用".物理 032.3(2003). |
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