HFCAS OpenIR
原位刻蚀法制备TiO_2纳米线阳极薄膜
其他题名IN-SITU ETCHING METHOD FOR TiO_2 NANOWIRE PHOTOANODE PREPARATION
肖黎1; 张永哲1; 许佳1; 姚建曦1; 戴松元1; 张兵1; 潘旭2
2015
发表期刊太阳能学报
ISSN0254-0096
摘要采用水热法在FTO基板上制备TiO_2纳米线阵列,在此基础上,通过水热法采用HCl对该薄膜进行原位刻蚀。XRD结果表明刻蚀过程并未影响TiO_2纳米线阵列薄膜的结晶性。SEM结果表明刻蚀过程能有效降低纳米线之间的团聚程度,从而保证薄膜具有较大的比表面积。染料的吸附-脱附结果也表明,刻蚀后纳米线薄膜的染料负载能力提高了1倍,将制备的TiO_2纳米线阵列薄膜作为染料敏化太阳电池的光阳极进行光电性能研究,发现使用经过刻蚀处理光阳极的太阳电池比采用未刻蚀处理的光阳极薄膜的电池光电转换效率提高了6倍。
关键词染料敏化太阳电池 水热法 TiO_2纳米线 原位刻蚀
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:5664990
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/97494
专题中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位1.华北电力大学
2.华北电力大学
3.华北电力大学
4.华北电力大学
5.华北电力大学
6.华北电力大学
7.中国科学院等离子体物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
肖黎,张永哲,许佳,等. 原位刻蚀法制备TiO_2纳米线阳极薄膜[J]. 太阳能学报,2015,36.
APA 肖黎.,张永哲.,许佳.,姚建曦.,戴松元.,...&潘旭.(2015).原位刻蚀法制备TiO_2纳米线阳极薄膜.太阳能学报,36.
MLA 肖黎,et al."原位刻蚀法制备TiO_2纳米线阳极薄膜".太阳能学报 36(2015).
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