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Interfacial and optical properties of YOxNy gate dielectrics at different deposition temperatures 期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D: APPLIED PHYSICS, 2009, 期号: 42
作者:  X J Wang;  L D Zhang;  G He;  L Q Zhu;  M Liu;  J P Zhang
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Effect of annealing on optical properties and band alignments of ZrO2/Si(1 0 0) by nitrogen-assisted reactive sputtering 期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D: APPLIED PHYSICS, 2006, 期号: 39
作者:  L Q Zhu;  Q Fang;  G He;  M Liu;  L D Zhang
Adobe PDF(287Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：360/124  |  提交时间：2010/07/20