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用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶 专利
专利类型: 发明, 专利号: cn101161855, 申请日期: 2008-01-01, 公开日期: 2009-11-10, 2009-11-10
发明人:  李新化;  邱凯;  尹志军;  钟飞;  陈家荣
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