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Investigation on the influence of the gas flow mode around substrate on the deposition of diamond films in an overmoded MPCVD reactor chamber 期刊论文
VACUUM, 2020, 卷号: 182
作者:  Wang, B.;  Weng, J.;  Wang, Z. T.;  Wang, J. H.;  Liu, F.;  Xiong, L. W.
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Gas flow mode  Diamond films  Uniformity  Microwave plasma  Chemical vapor deposition  
Investigation on the influence of high deposition pressure on the mcirostructure and hydrogen impurity incorporated in nanocrystalline diamond films 期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2018, 卷号: 495, 期号: 无, 页码: 1-8
作者:  Weng, J.;  Liu, F.;  Xiong, L. W.;  Bai, A.;  Wang, J. H.
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High deposition pressure  Nanocrystalline diamond  Hydrogen impurity  Microwave plasma  Chemical vapor deposition  
Deposition of large area uniform diamond films by microwave plasma CVD 期刊论文
VACUUM, 2018, 卷号: 147, 页码: 134-142
作者:  Weng, J.;  Liu, F.;  Xiong, L. W.;  Wang, J. H.;  Sun, Q.
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Large area diamond film  High microwave power  Uniformity  Microwave plasma  Chemical vapor deposition