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Investigation on the influence of the gas flow mode around substrate on the deposition of diamond films in an overmoded MPCVD reactor chamber 期刊论文
VACUUM, 2020, 卷号: 182
作者:  Wang, B.;  Weng, J.;  Wang, Z. T.;  Wang, J. H.;  Liu, F.;  Xiong, L. W.
收藏  |  浏览/下载：97/0  |  提交时间：2020/12/07
Gas flow mode  Diamond films  Uniformity  Microwave plasma  Chemical vapor deposition