×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
切换中国科技网通行证登录
×
切换中国科技网通行证登录
登录
中文版
|
English
中国科学院合肥物质科学研究院机构知识库
Knowledge Management System of Hefei Institute of Physical Science,CAS
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
学科领域
关键词
文献类型
出处
收录类别
出版者
发表日期
存缴日期
资助项目
学科门类
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
新闻&公告
在结果中检索
研究单元&专题
中科院固体物理研究所 [9]
中科院强磁场科学中心 [1]
作者
刘毛 [3]
高建 [1]
王秀娟 [1]
发表日期
2019 [1]
2017 [2]
2015 [1]
2011 [1]
2010 [1]
2009 [1]
更多...
语种
英语 [3]
出处
JOURNAL OF... [2]
JOURNAL OF... [1]
Journal of... [1]
PROGRESS I... [1]
资助项目
Anhui Prov... [1]
National N... [1]
National N... [1]
Open fund ... [1]
Technology... [1]
Top talent... [1]
更多...
资助机构
11474284) [2]
Anhui Prov... [2]
National N... [2]
Anhui Prov... [1]
Ministry o... [1]
National K... [1]
更多...
收录类别
SCI [3]
摘要
文献类型
学位论文 [5]
期刊论文 [5]
×
知识图谱
HFCAS OpenIR
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共10条,第1-10条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
发表日期升序
发表日期降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
提交时间升序
提交时间降序
题名升序
题名降序
作者升序
作者降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
Annealing-induced evolution in interface stability and electrical performance of sputtering-driven rare-earth-based gate oxides
期刊论文
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2019, 卷号: 778, 期号: 无, 页码: 579-587
作者:
Wang, Die
;
He, Gang
;
Liang, Shuang
;
Liu, Mao
浏览
  |  
Adobe PDF(3018Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:793/663
  |  
提交时间:2020/03/31
Dy2O3 gate dielectrics
High-k
Annealing temperature
Optical properties
Electrical characteristics
Annealing temperature-dependent microstructure and optical and electrical properties of solution-derived Gd-doped ZrO2 high-k gate dielectrics
期刊论文
JOURNAL OF SOL-GEL SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2017, 卷号: 83, 期号: 3, 页码: 675-682
作者:
Zhu, L.
;
He, G.
;
Sun, Z. Q.
;
Liu, M.
;
Jiang, S. S.
;
Liang, S.
;
Li, W. D.
收藏
  |  
浏览/下载:57/0
  |  
提交时间:2018/08/16
Gd-doped Zro2 Gate Dielectric Thin Films
Annealing Temperature
Sol-gel
Optical Properties
Electrical Properties
Interfacial modulation and electrical properties improvement of solution-processed ZrO2 gate dielectrics upon Gd incorporation
期刊论文
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 699, 期号: 无, 页码: 415-420
作者:
Xiao, D. Q.
;
He, G.
;
Lv, J. G.
;
Wang, P. H.
;
Liu, M.
;
Gao, J.
;
Jin, P.
;
Jiang, S. S.
;
Li, W. D.
;
Sun, Z. Q.
浏览
  |  
Adobe PDF(2130Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:134/86
  |  
提交时间:2018/07/04
High-k Gate Dielectrics
Gd Incorporation
Xps
Electrical Properties
Sol-gel
Reducing the interfacial reaction between borosilicate sealant and yttria-stabilized zirconia electrolyte by addition of HfO2
期刊论文
Journal of the European Ceramic Society, 2015, 卷号: 35, 期号: 8, 页码: 2427-2431
作者:
Shunrun Chen
;
Zhiwu Yu
;
Qi Zhang
;
Junping Wang
;
Teng Zhang
;
Junfeng Wang
浏览
  |  
Adobe PDF(1216Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:107/58
  |  
提交时间:2017/12/26
Integrations and challenges of novel high-k gate stacks in advanced CMOS technology
期刊论文
PROGRESS IN MATERIALS SCIENCE, 2011, 卷号: 56, 期号: 5
作者:
He, G
;
Zhu, LQ
;
Sun, ZQ
;
Wan, Q
;
Zhang, LD
Adobe PDF(8214Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:448/168
  |  
提交时间:2012/07/11
掺氮氧化钇氧化铪高介电栅介质薄膜氮含量的调控及性能优化研究
学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2010
作者:
王秀娟
Adobe PDF(2259Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:14/2
  |  
提交时间:2013/10/21
磁控溅射薄膜制备及改性研究
学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2009
作者:
张晋平
Adobe PDF(4767Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:8/1
  |  
提交时间:2013/10/14
锆基高介电常数栅介质薄膜的制备及物性研究
学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2007
作者:
竺立强
Adobe PDF(2044Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:81/27
  |  
提交时间:2010/04/01
高介电常数栅介质薄膜的制备及物性研究
学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2006
作者:
何刚
Adobe PDF(2362Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:33/3
  |  
提交时间:2013/09/29
铋基氧化物与合金薄膜的制备和物性研究
学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2006
作者:
范洪涛
Adobe PDF(5260Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:11/1
  |  
提交时间:2013/09/29