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超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101311300, 申请日期: 2008-01-01, 公开日期: 2009-11-10, 2009-11-10
发明人:  邱凯;  韩奇峰;  姬长建;  曹先存;  段铖宏;  尹志军;  李新化;  王玉琦
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