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统计条件
统计范围: 条目【Modification of electrical properties and carrier transportation mechanism of ALD-derived HfO2/Si gate stacks by Al2O3 incorporation】
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统计结果
累计访问量:108  累计下载量:40  
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按年统计
年份 访问量 下载量
2018 15 1
2019 14 5
2020 12 11
2021 4 2
2022 19 4
2023 25 11
2024 18 6
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